国产半导体设备研发及市场化又迎来新的突破性进展。

昨日，芯源微在公司成立二十周年之际举行新品发布会，宣布推出新一代浸没式高产能涂胶显影机FT(III)300。

“作为芯源微自主开发的第三代机型，浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，成功打破国外垄断，填补国内空白”，芯源微前道设计部总监程虎如是表示。

据了解，芯源微浸没式高产能涂胶显影机应用了其自主知识产权的双工对称架构、使用双向高精机械手传送，搭载36spin工艺腔体，可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能，可匹配所有主流光刻机联机量产。同时，该机型还可扩充至更多处理单元，由目前的36 Spin扩展为48 Spin，产能提升到每小时360片，提升机台维护效率。

除了可以应用于浸没式工艺外，该款机型还能够通过选配全面覆盖国内28nm及以上所有工艺节点，全面覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。同时机台可应用于其他旋涂类应用，包括SOC，SOH，SOD等技术应用场景，有效拓展涂胶显影机的产品应用领域和市场空间。

关于新机型客户端验证情况，芯源微董事长宗润福表示，公司首台浸没式高产能涂胶显影机此前已顺利运付客户现场，并已完成硬件指标、干湿运行颗粒、光阻膜厚均匀性、显影线宽均匀性、光刻机联机、inline联机产能等各项验证。“机台与国际主流光刻机联机作业，完成了客户端十余款光阻、多层layer量产验证，均达到客户量产指标，该机台已于近期顺利实现了验收。”

宗润福表示，预计该机型明年可实现批量订单。“目前国内越来越多的客户正在加速高端涂胶显影机的导入进程，公司新产品下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商。”

在产能准备上，宗润福介绍道，芯源微飞云路厂区产能持续饱满，沈阳彩云路厂区目前已经稳步达产。芯源微上海临港公司厂房计划在春节前完成封顶，并争取尽快投入使用。芯源微沈阳彩云路二期建设正在规划中，总体上来看，公司在2024年能够保障40亿以上的产能。