【清溢光电：未来随着半导体纳米压印技术的拓展对光掩膜版的需求也会随之增加 公司将积极关注佳能公司新型纳米压印半导体制造设备】财联社10月19日电，清溢光电在互动平台表示，根据佳能方面最新消息，该公司宣布推出新型纳米压印半导体制造设备，采用了纳米压印技术，可实现最小线宽为14nm的图案化，相当于5nm节点需要，生产目前可用的最先进的逻辑半导体。未来随着半导体纳米压印技术的拓展，对光掩膜版的需求也会随之增加，但是目前关于该技术的资料较少，尚需进一步跟踪了解。公司在2013年开发了应用于传统触控屏掩膜版产品的纳米压印掩膜版工艺，并应用在早期的触控屏掩膜版产品中。对于佳能公司新推出新型纳米压印半导体制造设备，公司将积极关注并跟进其对应的技术要求。