APP下载
2024年04月18日 10:28:47
【阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案】《科创板日报》18日讯,荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布,其首台采用0.55数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。 (tomshardware)
光刻机
阅 6.68W+
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
独家|国家相关部委有望设立低空经济专管司局
市场机制如何助力电力转型?直击绿色转型国际研讨会
分析师解读阿斯麦“爆雷”:全球芯片厂产能过剩,但非行业末日