光刻机
话题简介
EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备，目前由ASML独家进行研发、制造，ASML公司掌握80%的国际市场份额，市面上无法寻找到其他替代品
03月12日 13:37 来自 FNnews阅 4.74W+
财联社3月6日电，荷兰光刻机巨头ASML近期举行年报会议。据透露，ASML计划2025年在北京开设一个新的回收与维修中心（Reuse & Repair Center）。目前，ASML在亚洲（韩国、中国台湾和中国大陆）、美国（威尔顿、圣地亚哥、华盛顿州温哥华）和欧盟（费尔德霍芬）设有维修中心，与当地供应商和专业维修合作伙伴合作，打造本地生态系统。
03月06日 12:23 阅 5.11W+
《科创板日报》5日讯，阿斯麦（ASML）今日公布2025年度股东大会议程，会议将于2025年4月23日在ASML位于菲尔德霍芬的礼堂举行。此外，ASML还宣布现任监事会委员Annet Aris在其任期届满后不再寻求连任，监事会提名Karien van Gennip出任新任监事会委员。
03月05日 15:07 阅 5.18W+
《科创板日报》5日讯，在阿斯麦（ASML）今日发布的2024年度报告中，首席执行官克里斯托弗·福凯（Christophe Fouquet）表示：“如果我展望ASML的未来增长，光刻技术无疑仍然是摩尔定律的主要驱动力之一，我们相信这一点在未来许多年里依然成立。与此同时，正如我们几年前就意识到的，二维收缩（2D shrink）正变得越来越困难。这并不完全是由于光刻技术的局限性，而是因为我们几乎达到了逻辑和存储器客户所使用的晶体管的极限。为了继续在二维收缩方面取得进展，我们需要在架构和器件上进行创新。这意味着需要进行三维前道整合（3D front-end integration），而这将为我们带来增长机会——因为三维整合技术依赖于键合（Bonding），而这又需要一体化光刻技术（holistic lithography）。我认为，三维整合将成为二维收缩日益重要的补充技术或技术组合。”
03月05日 15:05 阅 5.28W+
《科创板日报》5日讯，阿斯麦（ASML）今日发布了主题为“携手推进技术向新”的2024年度报告。对于2025年及以后的首要任务，ASML首席执行官克里斯托弗·福凯（Christophe Fouquet）表示：“当务之急是继续与客户的路线图保持一致。我们的客户在未来几年将面临许多艰难的选择，他们必须确保所选择的技术能够实现他们所需要的结果。我们意识到，向下一代光刻系统的转变可能会给客户带来非常高昂的成本。我们的任务和机会就是要了解如何帮助他们，并开发出能够使他们以尽可能低的风险和尽可能低的成本实现质量目标的产品和服务。”
03月05日 14:42 阅 5.44W+
财联社1月29日电，阿斯麦（ASML）股价在欧洲上涨11%，第四季度订单超过预期。ASML周三公布第四季度订单额为70.9亿欧元，远超分析师所得的平均预估35.3亿欧元。
01月29日 16:06 阅 6.1W+
财联社1月23日电，荷兰首相斯霍夫日前在接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。斯霍夫在出席世界经济论坛2025年年会期间接受采访时说，美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了相当大的压力，预计特朗普政府将延续这一策略。“我认为，我们自行决定实施什么样的政策非常重要。”斯霍夫说，荷兰与中国保持着良好的贸易关系，将与中国就相关问题交换意见。 (新华社)
01月23日 19:55 来自 新华社阅 5.11W+
《科创板日报》6日讯，据报道，阿斯麦（ASML）下周将由CEO克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）带领多位高层，与台积电董事长兼总裁魏哲家、共同营运长秦永沛等多位高管会面。供应链认为，ASML将进一步了解台积电未来数年制程技术Roadmap与采购计划，并希望台积电能加速并扩大下单要价近3.8亿美元的High NA EUV光刻机。 (台湾电子时报)
01月06日 15:26 来自 台湾电子时报阅 5.27W+
《科创板日报》19日讯，Rapidus已开始在位于北海道的在建芯片制造工厂安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备。 公司正与IBM合作，计划于2025年春季采用最先进的2nm工艺开发原型芯片，并于2027年实现量产。 (NIKKEI)
12月19日 08:51 来自 NIKKEI阅 5.49W+
财联社12月3日电，国林科技20CM涨停，新莱应材涨超5%，珂玛科技、东方嘉盛、蓝英装备、张江高科、晶方科技、波长光电等跟涨。
12月03日 09:44 阅 5.44W+
《科创板日报》15日讯，日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。根据Rapidus高管以往表态，该光刻机是较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款。 (日本经济新闻)
11月15日 14:06 来自 日本经济新闻阅 6.5W+
《科创板日报》15日讯，SK海力士技术长Seon-yong Cha表示，正考虑引进ASML造价4亿美元的High NA EUV光刻设备，生产下一代存储芯片。 (ChosunBiz)
11月15日 12:47 来自 ChosunBiz阅 6.93W+
