【三星或最快于年底引进High-NA EUV设备】《科创板日报》16日讯，三星计划在今年年底或2025年第一季度引入其首台High-NA EUV光刻机“EXE:5000”，预计该设备将用于晶圆代工业务。目前，ASML仅制造了8台EXE:5000设备，其中多台已经被英特尔公司预定。 (首尔经济日报)