很抱歉,当前没有启用javascript,网站无法正常访问。请开启以便继续访问。机构:预计ASML High NA EUV光刻机功耗约1400千瓦
2024年11月04日 17:35:34
【机构:预计ASML High NA EUV光刻机功耗约1400千瓦】《科创板日报》4日讯,TechInsights表示,每台ASML 0.33 NA EUV光刻机的功耗就已经达到了1170kW,而0.55NA (High NA) 光刻机的功耗预计将进一步增长至1400kW。
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